电子化学品研发中心
Electronic chemical R&D center
韩国
武汉瑞普赛技术有限公司
韩国忠南大学化学工程博士
RHEE TAI HYUNG
首席专家
中国
武汉工程大学
博士、化工与制药学院教授
郭嘉
联合技术专家
教授、硕士生导师
袁军
高选择比磷酸
蚀刻液
半导体封测用
剥离液、显影液、稀释剂
OLED用
银蚀刻液
有机材料导入
面板行业用蚀刻液,、
剥离液,、显影液、 稀释剂的升级及国产化
重点推进1：DRAM用芯片级磷酸 和 3D NAND用磷酸蚀刻液
利用国内埋藏丰富的磷矿石以及磷酸,以开发半导体制造需要超高纯度磷酸及3D NAND的核心工程材料磷酸蚀刻液为目标
实验室
蚀刻液浓度及水分分析
电子显微镜(SEM)
金属杂质分析 (ICP‐MS)
椭偏仪(Ellipsometer)
旋涂机(Spin Coater)
真空干燥箱(VCD)
热板(Hot Plate)
曝光机(Aligner)
显影机(Developer)
膜厚仪
光学显微镜
120L磷酸提纯设备
小型蒸馏设备
大型实验蒸馏设备
蚀刻机
剥离机
DRAM
3D NAND
(EX) TSP on Plastic Film
主要开发预计未来发展过程中需要使用的Flexible Display有机材料
2019年1月 与武汉工程大学联合设立研发中心
2019年10月 与韩国ENF Technology.,Ltd签署技术支持协议
2020年11月 获批武汉市芯片级电子化学品企校联合创新中心
2021年11月 取得1个发明专利，12个实用新型技术专利。
2：OLED 用有机新材料
研发中心
R&D Centerl
研发团队
R&D Team
项 目
Project
设备概况
R&D Equipment
