电子化学品介绍-武汉瑞普赛技术有限公司

电子化学品

Electronic Chemical

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稀释剂（Thinner）

　　稀释剂是清除半导体/显示器制造工艺基板的边缘部分或者喷嘴处不必要的光致抗蚀剂，保证工艺正常进行的基本材料。用于半导体晶圆去边EBR（Edge Bead Remover），减少色浆用量的RRC，色浆Rework与管道清洗工艺。除TFT-LCD显示器EBR工艺外，还可用于色浆喷嘴、Coater Cup洗涤等。ENF研发、生产、销售针对于不同类型光刻胶所对应的稀释剂。

剥离液（Stripper）

　　剥离液主要用于半导体/显示器制造工艺中光刻胶(Photoresist)的剥离去除。通常的半导体/显示器制造工艺中，需在待加工材料膜层的表面涂覆光刻胶，通过曝光、显影、蚀刻工艺后将掩膜版(Mask)图形转移到待加工材料层，然后借助剥离液将残留的光刻胶剥离去除，同时不能腐蚀其他基材。ENF基于配方(Formulation)开发、提纯(Purification)与药液回收利用(Recycle)技术，研发、生产、销售各种兼容性优异，光刻胶去除能力强，对其它基材(金属、有机层等)腐蚀性小的剥离液产品。

显影液（Developer）

　　显影液是应用于半导体/显示器制造过程平版印刷工艺中选择性溶解光刻胶曝光/非曝光区域的产品。ENF研发、生产、销售用于液晶显示器(TFT-LCD)中彩色滤光片(CF)制程不同工序对应的负性光刻胶(Negative Photoresist)的显影液，包括黑色矩阵(BM)、彩色层(RGB)、间隙柱体(ps)和保护层(OC)的显影，显影后图形清晰，无残留，无侧蚀，无基底腐蚀等。

蚀刻液（Etchant）

　　蚀刻液是半导体/显示器制造过程中用于湿法蚀刻（Wet Etching）工艺的材料。在显示器制造工艺中主要用于清除金属膜制作图案，在半导体制造工艺中，还被广泛用于去除硅氧化膜或氮化膜。ENF研发销售针对于各种金属(Al、Mo)膜层结构和兼容多种金属膜层的蚀刻液。